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蘇州【 上海境祥化工有限公司】電子級(jí)氪氖氙氣體用量將增加至850ML,同比增長(zhǎng)29%

時(shí)間: 2021-11-10 17:36:07來(lái)源: 上海境祥化工有限公司   閱讀次數(shù):9816

【 上海境祥化工有限公司】在信息時(shí)代的飛速發(fā)展中,海量數(shù)據(jù)的處理不僅對(duì)于芯片算力提出越來(lái)越高的要求,不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時(shí)更低的存儲(chǔ)介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲(chǔ)器高深寬比刻蝕工藝,從而實(shí)現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。氣體圈子預(yù)測(cè),2025年全球電子級(jí)稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML,較2020年增長(zhǎng)29%。全球電子級(jí)稀有氣體主要廠商有德國(guó)林德氣體、法國(guó)液化空氣、美國(guó)空氣化工、日本酸素(原名大陽(yáng)日酸)和烏克蘭CRYOIN,中國(guó)供應(yīng)商市場(chǎng)份額占比較大的有福建博純材料和廣東華特氣體。

激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。受益于手機(jī)屏幕創(chuàng)新和應(yīng)用領(lǐng)域擴(kuò)張,低溫多晶硅市場(chǎng)規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大,激光退火工藝顯著提高了TFT的性能。制造半導(dǎo)體的ArF準(zhǔn)分子激光使用的氖、氟、氬氣體中,氖氣占激光氣體混合物的96%以上。隨著半導(dǎo)體工藝的精細(xì)化,準(zhǔn)分子激光的使用量有所增加,加之雙重曝光技術(shù)的引入,ArF準(zhǔn)分子激光消耗的氖氣需求劇增。受益于電子特種氣體國(guó)產(chǎn)化的推動(dòng),未來(lái),國(guó)內(nèi)廠商有較好的市場(chǎng)成長(zhǎng)空間。


光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備,光刻定義了晶體管尺寸,光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機(jī)突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體材料和涂膠顯影設(shè)備等都擁有較高的科技含量。光刻氣體是光刻機(jī)產(chǎn)生深紫外激光的氣體。不同的光刻氣體能產(chǎn)生不同波長(zhǎng)的光源,其波長(zhǎng)直接影響了光刻機(jī)的分辨率,是光刻機(jī)的核心之一。2020年全球光刻機(jī)總銷(xiāo)售量為413臺(tái),其中ASML銷(xiāo)售258臺(tái)占比62%,佳能銷(xiāo)售122臺(tái)占比30%,尼康銷(xiāo)售33臺(tái)占比8%。

由Linx Consulting、GasReview和氣體圈子共同完成的《全球電子稀有氣體市場(chǎng)研究 2021版》調(diào)研過(guò)程中得到了鎧俠、三星、海力士、美光、博純材料、瀚沫能源和國(guó)內(nèi)多家稀有氣體原料工廠人士的大力支持,在此表示感謝!該報(bào)告是基于電子客戶(hù)稀有氣體的實(shí)際工藝消耗量和使用價(jià)值統(tǒng)計(jì),避免了供應(yīng)端統(tǒng)計(jì)會(huì)出現(xiàn)的重復(fù)計(jì)算問(wèn)題?!度螂娮酉∮袣怏w市場(chǎng)研究 2021版》報(bào)告主要對(duì)氪氖氙在電子領(lǐng)域的成長(zhǎng)性做了具體研究,包括市場(chǎng)應(yīng)用趨勢(shì)、量?jī)r(jià)趨勢(shì)和供應(yīng)鏈分析等。咨詢(xún)熱線13701904382?

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