【 上海境祥化工有限公司】在信息時代的飛速發(fā)展中，海量數(shù)據(jù)的處理不僅對于芯片算力提出越來越高的要求，不斷累積的數(shù)據(jù)也需要更大、更快、延時更低的存儲介質(zhì)。電子工業(yè)中氪氙氣體主要用于3D NAND存儲器高深寬比刻蝕工藝，從而實現(xiàn)多層堆疊結(jié)構(gòu)。氣體圈子預(yù)測，2025年全球電子級稀氪氖氙氣體用量將增加至850ML，較2020年增長29%。全球電子級稀有氣體主要廠商有德國林德氣體、法國液化空氣、美國空氣化工、日本酸素（原名大陽日酸）和烏克蘭CRYOIN，中國供應(yīng)商市場份額占比較大的有福建博純材料和廣東華特氣體。

激光氣體主要用于電子工業(yè)中激光退火和光刻氣。受益于手機屏幕創(chuàng)新和應(yīng)用領(lǐng)域擴張，低溫多晶硅市場規(guī)模將進一步擴大，激光退火工藝顯著提高了TFT的性能。制造半導(dǎo)體的ArF準分子激光使用的氖、氟、氬氣體中，氖氣占激光氣體混合物的96%以上。隨著半導(dǎo)體工藝的精細化，準分子激光的使用量有所增加，加之雙重曝光技術(shù)的引入，ArF準分子激光消耗的氖氣需求劇增。受益于電子特種氣體國產(chǎn)化的推動，未來，國內(nèi)廠商有較好的市場成長空間。

光刻機是半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，光刻定義了晶體管尺寸，光刻產(chǎn)業(yè)鏈協(xié)同發(fā)展是光刻機突破關(guān)鍵。與之配套的光刻膠、光刻氣體、光罩等半導(dǎo)體材料和涂膠顯影設(shè)備等都擁有較高的科技含量。光刻氣體是光刻機產(chǎn)生深紫外激光的氣體。不同的光刻氣體能產(chǎn)生不同波長的光源，其波長直接影響了光刻機的分辨率，是光刻機的核心之一。2020年全球光刻機總銷售量為413臺，其中ASML銷售258臺占比62%，佳能銷售122臺占比30%，尼康銷售33臺占比8%。

由Linx Consulting、GasReview和氣體圈子共同完成的《全球電子稀有氣體市場研究 2021版》調(diào)研過程中得到了鎧俠、三星、海力士、美光、博純材料、瀚沫能源和國內(nèi)多家稀有氣體原料工廠人士的大力支持，在此表示感謝！該報告是基于電子客戶稀有氣體的實際工藝消耗量和使用價值統(tǒng)計，避免了供應(yīng)端統(tǒng)計會出現(xiàn)的重復(fù)計算問題?！度螂娮酉∮袣怏w市場研究 2021版》報告主要對氪氖氙在電子領(lǐng)域的成長性做了具體研究，包括市場應(yīng)用趨勢、量價趨勢和供應(yīng)鏈分析等。咨詢熱線13701904382?